Литографията на електронния лъч (ebl) е устройство за производство на микро-нано, базирано на експозиция на електронен лъч. Основният му принцип е да рисува наномащабни модели на съпротива (като pmma, hsq), използвайки високоенергиен електронен лъч. И накрая, моделът се прехвърля към материала на субстрата чрез процеси като разработка и фиксиране.