Маскирана литография е усъвършенствано оборудване за литография, което не изисква физическа маска. Той използва цифрово микроогледално устройство (dmd) за динамично генериране на литографски модели, което позволява гъвкава и ефективна обработка на микромащабна структура. Основната му функция е да използва способността за модулация на пространствената светлина на dmd, за да проектира директно компютърно проектирани модели върху повърхността на субстрата. Това елиминира тромавите стъпки на изработка на маски и подравняване в традиционната литография, като значително съкращава цикъла на научноизследователската и развойна дейност и намалява производствените разходи.
