Electron litografija zraka (EBL) je uređaj mikro-nano zasnovan na izložbu elektronnog zraka. Njegov je osnovni princip je da crtaje nano-scale obrazace na otporu (kao što je PMMA, HSQ) koristeći visokog energije elektronskog zraka. Konačno, obrazac se prebačen u substrate materijal kroz procese poput razvoja i ravnotanje.