La litografia de toni electron (EBL) és un dispositiu de fabricació de micronanos basat en l'exposció de feix electrones. El seu principi és dibuixar patrons d' escala de nano en una resistència (com PMMA, HSQ) utilitzant un feix electron d'alt energia. Finalment, el patró es transfereix al material substrat a través de processos com el desenvolupament i arreglar.