Litografie elektronových paprsků (ebl) je zařízení na výrobu mikronanů založené na expozici elektronového paprsku. Jeho základním principem je kreslit nano-stupnice vzory na odporu (jako pmma, hsq) s použitím vysoce energetického elektronového paprsku. Nakonec se vzor přenáší na materiál substrátu prostřednictvím procesů, jako je vývoj a upevnění.