Elektronstrålelitografi (EBL) er en mikronano fabrikationsanordning baseret på elektronstråleeksponering. Dens kerneprincip er at tegne nano-skala mønstre på en modstand (såsom PMMA, HSQ) ved hjælp af en højenergi-elektronstråle. Endelig overføres mønsteret til substrat materiale gennem processer som udvikling og fastgørelse.