Masklessløs litografi er et avanceret litografi udstyr, der ikke kræver en fysisk maske. Det bruger en digital mikrospejl enhed (DMD) til dynamisk at generere litografiske mønstre, muliggør en fleksibel og effektiv behandling af mikroskalastrukturer. Dens kernefunktion udnytter den rumlige lys graduering kapacitet af DMD til direkte projektering computer-designede mønstre på substrat Overflade. Dette eliminerer de besværlige trin i maskefremstilling og tilpasning i traditionel litografi, at afkorte F&U-cyklussen betydeligt og reducere produktionsomkostningerne.
