Was ist das Arbeits prinzip einer Elektronenstrahl-Lithographie maschine?

Die Elektronen strahl lithographie (EBL) ist ein Mikro-Nano-Herstellungs gerät, das auf der Exposition gegenüber Elektronen strahlen basiert. Sein Kern prinzip besteht darin, nanos kalige Muster auf einem Resist (wie PMMA, HSQ) unter Verwendung eines energie reichen Elektronen strahls zu zeichnen. Schließlich wird das Muster durch Prozesse wie Entwicklung und Fixierung auf das Substrat material übertragen.