Die masklose Lithographie ist eine fortschritt liche Lithographie ausrüstung, für die keine physische Maske erforderlich ist. Es verwendet ein digitales Mikros piegel gerät (DMD), um dynamisch litho grafische Muster zu erzeugen und eine flexible und effiziente Struktur verarbeitung im Mikro maßstab zu ermöglichen. Seine Kernfunktion besteht darin, die räumliche Licht modulation fähigkeit des DMD zu nutzen, um computer gestaltete Muster direkt auf die Substrat oberfläche zu projizieren. Dies eliminiert die umständlichen Schritte der Masken herstellung und-ausrichtung in der traditionellen Lithographie, wodurch der F & E-Zyklus erheblich verkürzt und die Produktions kosten gesenkt werden.
