Masklea litografio estas progresa litografio, kiu ne bezonas fizikan maskon. Ĝi uzas ciferecan mikromirroraparaton (DMD) por dinamike kreigi litografajn ŝablonojn, ebligado de fleksebla kaj efika mikroskala strukturo. Ĝia ĉefa funkcio uzas la spaciajn moduladojn de la DMD por direkte projekti komputilan ŝablonon sur la substrajn Subirekto. Tio forigigas la malbonajn paŝojn de masko farado kaj alĝustigo en tradicia litografio, konsidere mallongigas la R&D ciklon kaj redukti la produktkostojn.
