La litografía por haz de electrones (EBL) es un dispositivo de fabricación micro-nano basado en la exposición al haz de electrones. Su principio básico es dibujar patrones a nanoescala en una resistencia (como PMMA, HSQ) utilizando un haz de electrones de alta energía. Finalmente, el patrón se transfiere al material del sustrato a través de procesos tales como desarrollo y fijación.