Electronbeam litografia (EBL) on mikronano-valmistuslaite, joka perustuu elektronisäteen altistumiseen. Sen ydinperiaatteena on piirtää nano- mittakaava kuvioita vastustukselle (kuten PMMA, HSQ) käytetään suurenergistä elektronisädeä. Lopuksi kuvio siirretään substraattiin prosesseilla, kuten kehitys ja kiinnitys.