La lithographie par faisceau d'électrons (EBL) est un dispositif de fabrication micro-nano basé sur l'exposition au faisceau d'électrons. Son principe de base est de dessiner des motifs à l'échelle nanométrique sur une résine (comme le PMMA, HSQ) en utilisant un faisceau d'électrons à haute énergie. Enfin, le motif est transféré au matériau du substrat par des processus tels que le développement et la fixation.