La lithographie sans masque est un équipement de lithographie avancé qui ne nécessite pas de masque physique. Il utilise un dispositif numérique micromiroir (DMD) pour générer dynamiquement des motifs lithographiques, permettant un traitement flexible et efficace de la structure à micro-échelle. Sa fonction principale est d'utiliser la capacité de modulation de lumière spatiale du DMD pour projeter directement des motifs conçus par ordinateur sur la surface du substrat. Ceci élimine les étapes fastidieuses de la fabrication et de l'alignement de masque dans la lithographie traditionnelle, raccourcissant de manière significative le cycle de R & D et réduisant des coûts de production.
