Is feiste déanta micrea-nano é lithografaíocht bhíoma leictreon (EBL) atá bunaithe ar nochtadh bhíoma leictreon. Is é a chroíphrionsabal patrúin nana-scála a tharraingt ar fhriotaí (mar shampla PMMA, HSQ) ag úsáid bhíoma leictreon ardfhuinnimh. Faoi dheireadh, aistrítear an patrún chuig ábhar an tsubstráit trí phróisis mar fhorbairt agus socrú.