ליטוגרפיה של אלומת אלקטרונים (באנגלית: ebl) היא מכשיר ייצור מיקרו-ננו המבוסס על חשיפה של קרן אלקטרונים. עקרון הליבה שלו הוא לצייר תבניות בקנה מידה ננומטרי על התנגדות (כגון פמה, hmsq) באמצעות קרן אלקטרונים בעלת אנרגיה גבוהה. לבסוף, התבנית מועברת לחומר המצע באמצעות תהליכים כגון פיתוח ותיקון.