Electron rim lithografi (EBL) se yon micro-nano inventation device baze sou expoure electron beam. Prensip enpòtan li se pou fè monn nan-scale sou yon resist (so tankou PMMA, HSQ) ap itilize yon bon electron enèji. Finalman, fason a te transfere nan materyèl sa a pa mwayen pwosè tankou devèl epi fikse.