A maszkos litográfia egy fejlett litográfiai berendezés, amely nem igényel fizikai maszkot. Digitális mikrotükörkészüléket (dmd) használ a litográfiai minták dinamikus generálására, lehetővé téve a rugalmas és hatékony mikro-skálastruktúra-feldolgozást. Alapvető funkciója a dmd térbeli fénymodulációs képességének kihasználása, hogy a számítógép által tervezett mintákat közvetlenül a szubsztrát felületére vetítse. Ez kiküszöböli a hagyományos litográfia maszk készítésének és összehangolásának nehézkes lépéseit, jelentősen lerövidítve a k + f ciklust és csökkentve a termelési költségeket.
