Electron beam lithography (EBL) adalah perangkat fabrikasi micro-nano berdasarkan paparan sinar elektron. Prinsip intinya adalah untuk menarik pola berskala nano pada penahan (seperti PMMA, HSQ) menggunakan sinar elektron energi tinggi. Akhirnya, pola ditransfer ke material substrat melalui proses seperti pengembangan dan pemasangan.