2025-08-06

Hver er vinnu meginregla rafeindageisla lithography véla?

Rafeinda geisla lithography (EBL) er ör-nano frambúðartæki byggt á útsetningu rafeindageisla. Kjarna meginregla þess er að teikna nanó-skala mynstur á andspyrnu (svo sem PMMA, HSQ) nota rafeindageisla. Að lokum er mynstrið flutt í undirlag efnið með ferlum eins og þróun og laga.