EBL (Electron beam lithography) 은 초점이 맞춰진 전자 빔을 사용하여 전자에 민감한 레지스트 표면에 나노 스케일 패턴을 직접 기록하는 마스크가없는 직접 쓰기 리소그래피 기술입니다.