Maskless 리소그래피는 물리적 마스크를 필요로하지 않는 고급 리소그래피 장비입니다. 디지털 마이크로 미러 장치 (DMD) 를 사용하여 리소그래피 패턴을 동적으로 생성하여 유연하고 효율적인 마이크로 스케일 구조 처리를 가능하게합니다. 핵심 기능은 DMD의 공간 광 변조 기능을 활용하여 컴퓨터 설계 패턴을 기판 표면에 직접 투사합니다. 이것은 전통적인 리소그래피에서 마스크 제조 및 정렬의 번거로운 단계를 제거하여 R & D 사이클을 크게 단축시키고 생산 비용을 절감합니다.