2025-08-06

Электрондун литографиянын иштеп жаткан принципи эмне?

Electron beam lithography (EBL) - микро-nano чыгаруу түзүмдөрдүн электрондук баяндамасына негизделген. Анын негизги принципи - нано масштабдун шаблондун тартуу үчүн (ПMMA, HSQ сыяктуу) жогорку энергиялык электрондук баяны колдонуп жатат. Акыркы учурда, шаблонду субстрат материалына көчүрүлгөн процесстер менен иштетүү жана түзүү аркылуу берилген.