D'Elektronestraal-Lithographie (EBL) ass en Mikro-Nano-Fabrikatiounsapparat, deen op der Elektronestraalbeliichtung baséiert. Säi Kärprinzip besteet doran, Nano-Muster op engem Resist (wéi PMMA, HSQ) mat engem héichenergetesche Elektronestrahl ze zeechnen. Flimm, de Muster ass der Substratmateriel erverteren