X’inhu l-prinċipju ta’ ħidma ta’ magna litografija b’raġġ elettroniku?

Il-litografija b’raġġ elettroniku (EBL) hija apparat ta’ fabrikazzjoni mikronano bbażat fuq l-esponiment tar-raġġ tal-elettron. Il-prinċipju ewlieni tiegħu huwa li jiġbed xejriet ta’ skala nano fuq reżistenti (bħal PMMA, HSQ) bl-użu ta’ raġġ elettroniku ta’ enerġija għolja. Fl-aħħar nett, il-mudell jiġi trasferit għall-materjal substrat permezz ta’ proċessi bħall-iżvilupp u l-iffissar.