इलेक्ट्रोन बीम लिथोग्राफी (EBL) एक माइक्रो-नानो बनावट उपकरण हो जुन इलेक्ट्रोन बीम एक्सपोजरमा आधारित छ। यसको मुख्य सिद्धान्त प्रतिरोधमा नानो-स्केल ढाँचाहरू कोर्नु हो (जस्तै PMMA, HSQ) एक उच्च ऊर्जा इलेक्ट्रोन बीम प्रयोग गर्दै। अन्तमा, ढाँचा विकास र फिक्सिंग जस्ता प्रक्रियाहरू मार्फत सब्सट्रेट सामग्रीमा सारिन्छ।