Maskerloze lithografie is een geavanceerde lithografieapparatuur waarvoor geen fysiek masker nodig is. Het maakt gebruik van een digitaal microspiegelapparaat (DMD) om dynamisch lithografische patronen te genereren, waardoor flexibele en efficiënte structuurverwerking op microschaal mogelijk is. De kernfunctie is het gebruik van de ruimtelijke lichtmodulatiemogelijkheid van de DMD om rechtstreeks door de computer ontworpen patronen op het substraatoppervlak te projecteren. Dit elimineert de omslachtige stappen van het maken en uitlijnen van maskers in traditionele lithografie, waardoor de R & D-cyclus aanzienlijk wordt verkort en de productiekosten worden verlaagd.
