Elektronstrålelitografi (EBL) er en mikronano-framstillingsinnretning basert på eksponering for elektronstråle. Hovedprinsippet er å tegne nanoskalamønstre på en motstand (som PMMA, HSQ) ved hjelp av en elektrisk stråle. Til slutt overføres mønsteret til substratmaterialet gjennom prosesser som utvikling og fastgjøring.