Litografia wiązki elektronów (EBL) to urządzenie do produkcji mikro-nano oparte na ekspozycji na wiązkę elektronów. Jego podstawową zasadą jest rysowanie wzorców w nanoskali na oporze (takim jak PMMA, HSQ) za pomocą wiązki elektronów o wysokiej energii. Na koniec wzór jest przenoszony na materiał podłoża poprzez procesy takie jak rozwój i utrwalanie.