Litografia fasciculului electronic (EBL) este un dispozitiv de fabricație micro-nano bazat pe expunerea fasciculului de electroni. Principiul său de bază este de a desena modele nano-scala pe un rezistent (cum ar fi PMMA, HSQ) folosind o rază de electroni de înaltă energie. În cele din urmă, modelul este transferat în materialul substrat prin procese precum dezvoltarea și fixarea.