Электронно-лучевая литография (EBL)-это устройство для изготовления микро-нано, основанное на воздействии электронного пучка. Его основной принцип заключается в том, чтобы рисовать наномасштабные узоры на резисте (например, PMMA, HSQ) с использованием высокоэнергетического электронного пучка. Наконец, рисунок переносится на материал подложки посредством таких процессов, как разработка и фиксация.