Litografia elektrónového lúča (ebl) je mikro-nano výrobné zariadenie založené na expozícii elektrónového lúča. Jeho základným princípom je nakresliť nano-stupnice vzory na odporu (ako pmma, hsq) pomocou vysoko energetického elektrónového lúča. A konečne, vzor sa prenáša na substrát materiálu prostredníctvom procesov, ako je vývoj a upevnenie.