Litografija z elektronskim žarometom (EBL) je naprava za izdelavo mikronanov, ki temelji na izpostavljenosti elektronskega žareka. Temeljno načelo je risati vzorce nano-scale na upor (kot so PMMA, HSQ) uporablja visokoenergijski elektronski žarek. Nazadnje se vzorec prenese v substrat material s postopki, kot so razvoj in pritrditev.