Elektronstrålelitografi (EBL) är en mikronano-tillverkningsanordning baserad på elektronstråleexponering. Dess kärnprincip är att rita nano-skala mönster på ett motstånd (såsom PMMA, HSQ) med en högenergielektronstråle. Slutligen överförs mönstret till substrat material genom processer som utveckling och fixering.