Ano ang prinsipyo sa pagtatrabaho ng isang electron beam lithography machine?

Ang electron beam lithography (EBL) ay isang micro-nano fabrication device na batay sa electron beam exposure. Ang pangunahing prinsipyo nito ay ang pagguhit ng mga pattern ng nano-scale sa isang resistensya (tulad ng PMMA, HSQ) gamit ang isang electron beam na may mataas na enerhiya. Sa wakas, ang pattern ay inilipat sa substrate material sa pamamagitan ng mga proseso tulad ng pag-unlad at pag-aayos.